2013年，西泠印社將迎來(lái)創(chuàng)立110年華誕。為秉承“保存金石、研究印學(xué)，兼及書(shū)畫(huà)”之宗旨，彰顯西泠印社近年來(lái)提倡詩(shī)書(shū)畫(huà)印博通兼能的理念，進(jìn)一步推動(dòng)西泠印社學(xué)術(shù)研究的深入，促進(jìn)印學(xué)及相關(guān)學(xué)科的學(xué)術(shù)資源整合，西泠印社擬于2013年秋 110年社慶期間，在杭舉辦國(guó)際學(xué)術(shù)研討會(huì)，同期還將舉行饒宗頤社長(zhǎng)專(zhuān)題學(xué)術(shù)研討活動(dòng)（將另函征稿）。
本次國(guó)際學(xué)術(shù)研討會(huì)論題范圍涵蓋書(shū)法、繪畫(huà)、印學(xué)和金石學(xué)等領(lǐng)域，包括古璽印、文人篆刻藝術(shù)與印人印派、篆刻技法與審美、金石學(xué)與印學(xué)文獻(xiàn)、西泠印社史以及古代書(shū)畫(huà)研究等方面（其中書(shū)畫(huà)研究建議選取與印學(xué)、金石學(xué)及西泠印社相關(guān)的選題）。研討論文將編印成集，正式出版。本次研討會(huì)將是近年來(lái)西泠印社舉辦的學(xué)科涵蓋面最廣的一次研討活動(dòng)，旨在拓展學(xué)術(shù)研究視野，促進(jìn)多學(xué)科領(lǐng)域研究方法的交叉和成果共享交流。
本次研討會(huì)特設(shè)評(píng)獎(jiǎng)程序，除特約稿外，來(lái)稿論文將經(jīng)評(píng)審委員會(huì)評(píng)審，選出優(yōu)秀論文一、二、三等獎(jiǎng)共20篇，頒發(fā)獲獎(jiǎng)證書(shū)。獲優(yōu)秀論文一、二等獎(jiǎng)的社外作者，將評(píng)鑒其既往已發(fā)表學(xué)術(shù)成果情況，擇優(yōu)推薦至社長(zhǎng)會(huì)議，經(jīng)審定通過(guò)者直接吸收為西泠印社社員。評(píng)委及特約專(zhuān)家之論文不參加評(píng)獎(jiǎng)。
誠(chéng)望海內(nèi)外書(shū)畫(huà)篆刻及相關(guān)研究領(lǐng)域?qū)W者踴躍賜稿。
投稿論文要求：
1、來(lái)稿字?jǐn)?shù)以6000左右為宜、不超過(guò)10000字，電子稿尤佳，并附論文提要、關(guān)鍵詞、作者簡(jiǎn)介和詳細(xì)通訊地址；
2、來(lái)稿引文注釋需翔實(shí)規(guī)范（可參考相關(guān)學(xué)術(shù)刊物論文注釋體例），謝絕已發(fā)表論文（包括網(wǎng)絡(luò)發(fā)表）；
3、來(lái)稿附圖請(qǐng)按在文中順序編列圖版編號(hào)、標(biāo)注圖釋及圖版出處，并在文中注明圖版插入位置，切勿隨文編排；電子版圖片請(qǐng)存為jpg格式并在文件名中標(biāo)注尺寸，請(qǐng)勿存入word文檔；
4、來(lái)稿請(qǐng)于2013年6月30日前寄至：
地 址：浙江省杭州市下城區(qū)西湖文化廣場(chǎng)32號(hào)5樓西泠印社社委會(huì)藝術(shù)創(chuàng)研處（郵編310014）
聯(lián)系人：古 菲
電 話：0571-85811976 傳 真：0571-85812974
電 郵：xlyscyc@126.com
西 泠 印 社
二○一三年二月 |
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